MARC

 008021021s2001        us                        000a    eng
■020    ▼a0-7923-7361-8
■0801  ▼a53.082.7
■082    ▼a681.2▼bH997s▼223
■090    ▼a681.2▼bH997s
■1000  ▼aF.Quate,  Hyongsok  T.Soh,  Kathryn  Wilder  Guarini,  Calvin
■24510▼aSCANNING  PROBE  LITHOGRAPHY▼dHyongsok  T.Soh,  Kathryn  Wilder  Guarini,  Calvin  F.Quate  공저.
■260    ▼a미국▼bKluwer  Academic  Pub.▼c2001
■300    ▼a195p.▼c25cm
■505    ▼aChapter  1  :  Introduction  to  Scanning  Prbe  Lithography▼c1▼a1.1  The  Scanning  Probe  Microscope▼c1▼a1.2  High-Resolution  Patterning  Using  Scanning  Probes▼c6▼a1.3  Semiconductor  Lithography▼c9▼a1.4  Book  Overview▼c15▼a1.5  References▼c16▼aChapter  :  2  SPL  by  Electric-Field-Enhanced  Oxidation▼c23▼a2.1  Field-Enhanced  Oxidation  of  Silicon▼c23▼a2.2  Amorphous  Silicon  as  a  Resist  Material▼c24▼a2.3  Fabrication  of  a  100  nm  nMOSFET▼c2600▼a2.4  Results  and  Discussion▼c3211▼a2.5  Referecnes▼c1622▼aChapter  3  :  Resist  Exposure  Using  Field-Emitted  Electrons▼c3733▼a3.1  Field-Emitted  Electron  Exposure▼c3744▼a3.2  Current-Controlled  Exposures  in  Contact  Mode▼c4855▼a3.3  Current-Controlled  Exposures  in  Noncontact  Mode▼c6066▼a3.4  Simulations  of  Electron  Field  Emission  and  Electron  Trajectories▼c6777▼a3.5  Referenecs▼c7788▼aChapter  4  :  SPL  Linewidth  Control▼c8199▼a4.1  Exposure  Tools  and  Samples▼c8100▼a4.2  Sensitivity  and  Exposure  Latitude▼c8411▼a4.3  Energy  Density  Distribution  in  the  Resist▼c8522▼a4.4  Patterning  Linearity  Using  a  Pixel  Writing  Scheme▼c8833▼a4.5  Proximity  Effects▼c9144▼a4.6  Exposure  Mechanisms  of  High-  and  Low-nergy  Electrons▼c9755▼a4.7  Summary▼c9966▼a4.8  References▼c9977▼aChapter  5  :  Critical  Dimension  Pattenrning  Using  SPL▼c10388▼a5.1  100  nm  pMOSFET  Device    Fabrication▼c10399▼a5.2  Gate  Level  Lithography  Using  SPL▼c10500▼a5.3  PMOSET  Divice  Characteristics▼c11011▼a5.4  Summary  of  "Mix  and  Match"  Lithpgraphy▼c11222▼a5.5  References▼c11233▼aChapter  6  :  High  Speed  Resist  Exposure  With  a  Single  Tip▼c11544▼a6.1  High  Speed  Patterning  of  Siloxane  SOG▼c11555▼a6.2  Curent-Controlled  SPL  at  High  Speeds▼c11966▼a6.3  References▼c12977▼aChapter  7  :  On-Chip  Lithography  Control▼c13188▼a7.1  Background  and  Motivation▼c13199▼a7.2  MOSFET  Design  Considerations▼c13200▼a7.3  Cantilever  and  Ti  Design  Parameters▼c13811▼a7.4  Fabrication  Process▼c14022▼a7.5  Device  Characteristics▼c14633▼a7.6  Lithgraphy  with  Integrated  Transistor  for  Exposure  Dose  Control▼c14844▼a7.7  Summary▼c15055▼a7.8  References▼c15166▼aChapter  8  :  Scanning  Prove  Tips  for  SPL▼c15377▼a8.1  Silicon  and  Metal-Coated  Tips▼c15388▼a8.2  Post-Processed  Silicon  Tips▼c15599▼a8.3  Carbon  Nanotubes  as  Scanning  Probe  Tips▼c15600▼a8.4  References▼c16011▼aChapter  9  :  Scanning  Probe  arrays  for  Lithpgraphy▼c16322▼a9.1  Current-Controlled  Lithography  With  Two  Tips▼c16333▼a9.2  Massively  Parallel  Arrays  for  Lithgraphy▼c16344▼a9.3  Integrated  Current  Control  for  Arrays▼c17255▼a9.4  Two  Dimensional  Arrays  :  Process  Development▼c17366▼a9.5  Two  Dimensional  Arrays  :  Integration▼c17877▼a9.6  Imaging  With  the  2D  Array▼c18788▼a9.7  References▼c18899▼aEpilog▼c19100▼aList  of  Publications▼c19311▼aIndex▼c19722
■950    ▼b￦139310

Preview

Export

ChatGPT Discussion

AI Recommended Related Books