본문

서브메뉴

검색

  1. Home
半導體イオン注入技術 = 集積回路プロセス技術シリ-ズ
半導體イオン注入技術 = 集積回路プロセス技術シリ-ズ / 蒲生健次 저.
半導體イオン注入技術 = 集積回路プロセス技術シリ-ズ

상세정보

자료유형  
 단행본
UDC  
621.382
DDC  
621.3815 포53ㅂ-23
청구기호  
621.3815 포53ㅂ
저자명  
蒲生健次
서명/저자  
半導體イオン注入技術 = 集積回路プロセス技術シリ-ズ / 蒲生健次 저.
발행사항  
일본 : 産業圖書, 1986
형태사항  
212p. ; 22cm
주기사항  
반도체 이온주입 기술 집적회로 프로세스기술 시리즈
Control Number  
gtec:533

MARC

 008940819s1986        ja                        000a    jpn
■0801  ▼a621.382
■082    ▼a621.3815▼b포53ㅂ▼223
■090    ▼a621.3815▼b포53ㅂ
■1000  ▼a蒲生健次
■24510▼a半導體イオン注入技術▼x集積回路プロセス技術シリ-ズ▼d蒲生健次  저.
■260    ▼a일본▼b産業圖書▼c1986
■300    ▼a212p.▼c22cm
■500    ▼a반도체  이온주입  기술  집적회로  프로세스기술  시리즈

미리보기

내보내기

chatGPT토론

Ai 추천 관련 도서


    신착도서 더보기
    관련도서 더보기
    최근 3년간 통계입니다.
    추천하기

    소장정보

    • 예약
    • 도서대출 신청서비스
    • 나의폴더
    소장자료
    등록번호 청구기호 소장처 대출가능여부 대출정보
    H000508 621.3815 포53ㅂ 서고(데스크 문의) 대출가능 대출가능
    대출신청 마이폴더

    * 대출중인 자료에 한하여 예약이 가능합니다. 예약을 원하시면 예약버튼을 클릭하십시오.

    해당 도서를 다른 이용자가 함께 대출한 도서

    • イオン注入の基礎過程…7
    • 照射損傷とアニ─ル效果…37
    • 照射損傷とアニ─ル效果 (化合物半導體)…79
    • デバイス應用…127
    • デバイスヘの應用 (化合物半導體)…165
    • イオン注入將置…191

    관련도서

    관련 인기도서

    도서위치

    * 자료 이용 안내 *
    '서고'에 소장중인 자료의 열람(또는 대출)을 희망할 경우, 종합자료실 데스크로 문의바랍니다.