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방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연구
방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연구
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008171023s2002 a a jpn■022 ▼a17388228
■245 ▼a방사광을 이용한 전반사 형광 X선 분석시 실리콘 웨이퍼의 결정방향에 대한 배경강도 의존성 연구▼d許秉國
■300 ▼app. 545
■7001 ▼a許秉國
■773 ▼t대한금속ㆍ재료학회지▼gv.40 n.5▼d2002, 05
■SIS ▼aKS008656▼b63212▼h3▼sG
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