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Semiconductor 배선공정에서 웨이퍼 이면 Cu 오염이 반도체 소자 특성에 미치는 영향
Semiconductor 배선공정에서 웨이퍼 이면 Cu 오염이 반도체 소자 특성에 미치는 영향
Detailed Information
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 12271101
- 서명/저자
- Semiconductor 배선공정에서 웨이퍼 이면 Cu 오염이 반도체 소자 특성에 미치는 영향
- 형태사항
- pp. 129
- 기본자료저록
- 전자기술 : v.16 n.11 2003, 11
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- gtec:340389
MARC
008170927s2003 a a kor■022 ▼a12271101
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